プロセスカートリッジの枠体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：丹羽宏之 , 野口忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-271916
公開番号（公開出願番号）：特開2005-031487
出願日： 2003年07月08日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】プロセスカートリッジの枠体の超音波溶着において、応力集中によって溶着リブの逃げ溝にクラックが入ることを防止するために、逃げ溝に隅Rを設ける、台形形状または半円形状など、応力集中緩和形状とする。【解決手段】少なくとも、電子写真感光体と、前記電子写真感光体に作用するプロセス手段とを有する、画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジに用いられる、熱可塑性樹脂によって形成されるプロセスカートリッジの第一の枠体と第二の枠体で、前記第一と第二の枠体は少なくともどちらか一方に、前記第一の枠体と第二の枠体を超音波溶着にて結合するための凸条部と、超音波溶着によって前記凸条部が溶融して流入するための条溝部を有する枠体において、前記条溝部は超音波溶着時に応力集中を緩和する形状としたことを特徴とするプロセスカートリッジの枠体。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも、電子写真感光体と、前記電子写真感光体に作用するプロセス手段とを有する、画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジに用いられる、熱可塑性樹脂によって形成されるプロセスカートリッジの第一の枠体と第二の枠体で、前記第一と第二の枠体は少なくともどちらか一方に、前記第一の枠体と第二の枠体を超音波溶着にて結合するための凸条部と、超音波溶着によって前記凸条部が溶融して流入するための条溝部を有する枠体において、前記条溝部は超音波溶着時に応力集中を緩和する形状としたことを特徴とするプロセスカートリッジの枠体。

IPC (2件)：

G03G21/18 , B29C65/08

FI (2件)：

G03G15/00 556 , B29C65/08

Fターム (30件)：

2H171FA02 , 2H171FA07 , 2H171FA26 , 2H171GA15 , 2H171JA23 , 2H171JA27 , 2H171JA29 , 2H171JA31 , 2H171JA58 , 2H171PA06 , 2H171PA12 , 2H171QA03 , 2H171QA04 , 2H171QA08 , 2H171QA24 , 2H171QB03 , 2H171QB15 , 2H171QB47 , 2H171QB52 , 2H171QC03 , 2H171QC22 , 2H171SA32 , 2H171UA03 , 2H171UA13 , 4F211AH33 , 4F211AH53 , 4F211TA01 , 4F211TD01 , 4F211TD06 , 4F211TN22

引用特許：

出願人引用 (1件)

プロセスカートリッジ及び画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-301588 出願人：キヤノン株式会社

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