特許

J-GLOBAL ID：200903002407111328

基体処理装置

発明者： 三上 隆司 ,  西山 哲 ,  森野 弘
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 藤田 龍太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093125
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256143
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 設置スペースを縮小し、ホルダの回転,揺動の機構を容易にし、生産効率を向上する。【解決手段】 主筐体12内でイオン照射を利用して基体29の表面に薄膜形成或いはイオン照射を行う真空の処理室13と、主筐体12の上板15の開口16に設けられたバルブ17と、下面がバルブ17及び開口16を介して処理室13に連通し,ガイド34に沿い,上下動自在に設けられた副筐体18と、副筐体18の上板を貫通し,下端部に基体29のホルダ25を有し,上下動自在に設けられた回転軸22と、ホルダ25を開口16の上側,下側に位置するよう回転軸22を上下動する回転軸上下動手段59と、副筐体18の下端が,開口16の上側に位置したホルダ25の上方に位置する位置と,副筐体18をバルブ17に当接する位置とに副筐体18を上下動する副筐体上下動手段45を備える。

請求項（抜粋）：

主筐体内でイオン照射を利用して基体の表面に薄膜形成或いはイオン照射を行う真空の処理室と、前記主筐体の上板の開口に設けられたバルブと、下面が前記バルブ及び前記開口を介して前記処理室に連通し,ガイドに沿い,上下動自在に設けられた副筐体と、この副筐体の上板を貫通し,下端部に前記基体のホルダを有し,上下動自在に設けられた回転軸と、前記ホルダが前記開口の上側,下側に位置するよう前記回転軸を上下動する回転軸上下動手段と、前記副筐体の下端が,前記開口の上側に位置した前記ホルダの上方に位置する位置と,前記副筐体を前記バルブに当接する位置とに前記副筐体を上下動する副筐体上下動手段とを備えたことを特徴とする基体処理装置。

IPC (6件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

C23C 14/24 J ,  C23C 14/50 K ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/265 D