マイクロ構造物の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119850
公開番号（公開出願番号）：特開2002-307398
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】加工精度、量産性、製造コストに優れたマイクロ構造物の製造方法を提供する。【解決手段】 10μm単位で描かれた開口パターンを有するフォトマスク11を用意し、平面度のよいガラス基板10の上にフォトレジスト12を塗布し、その上にフォトマスク11を置いた状態で、UV(紫外線)ランプ13を用いて露光する。次にフォトマスク11を取り外し、フォトレジスト12の感光部分を現像した後、ガラス基板10の露出部分およびフォトレジスト12の未露光部分の表面に、無電解めっき等を用いて、Ni等の金属薄膜15を形成する。次に金属薄膜15の上にNi電解めっきを施して、金属薄膜15を成長させる。次に金属薄膜15の表面を研磨した後、ガラス基板10から剥離し、レジスト残渣を除去し、さらに所望の形状に加工すると、金属型20が得られる。

請求項（抜粋）：

立体形状を有する原版を用いて高分子材料を成形し、該立体形状を転写する工程を含むことを特徴とするマイクロ構造物の製造方法。

IPC (5件)：

B81C 1/00 , G01R 1/073 , G03F 7/20 501 , H01L 21/288 , H05K 3/00

FI (5件)：

B81C 1/00 , G01R 1/073 F , G03F 7/20 501 , H01L 21/288 E , H05K 3/00 W

Fターム (23件)：

2G011AA10 , 2G011AA16 , 2G011AB06 , 2G011AC14 , 2G011AC32 , 2G011AD01 , 2G011AE00 , 2G011AF07 , 2H097CA12 , 2H097GA00 , 2H097LA20 , 4M104AA10 , 4M104BB04 , 4M104BB05 , 4M104CC01 , 4M104DD24 , 4M104DD34 , 4M104DD37 , 4M104DD52 , 4M104DD53 , 4M104DD75 , 4M104FF13 , 4M104GG20

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