特許

J-GLOBAL ID：200903002442253194

光導波路及びその製造方法

発明者： 井本 克之 ,  堀 彰弘 ,  川又 繁
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214114
公開番号（公開出願番号）：特開平6-059147
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 コアとクラッドとの屈折率差が大きくて反りも小さく、かつ低損失な光導波路を提供する。また低コストな光導波路の製造方法も提供する。【構成】 基板1上にプラズマCVD法により、屈折率が1.46〜1.60の範囲内にあるSiOx(x=1.5〜1.9)を用いて略矩形状のコア2を形成し、コア2をそれよりも屈折率の低い材料からなる低屈折率材(クラッド3)で覆った。

請求項（抜粋）：

基板上にプラズマCVD法により、屈折率が1.46〜1.60の範囲内にあるSiOx(x=1.5〜1.9)を用いて略矩形状のコアを形成し、該コアをそれよりも屈折率の低い材料からなる低屈折率材で覆ったことを特徴とする光導波路。

IPC (3件)：

G02B 6/12 ,  C03B 8/04 ,  H01L 21/205