特許

J-GLOBAL ID：200903002453831866

高温高圧流体の反応装置ならびに製造装置

発明者： 鈴木 明 ,  新井 邦夫 ,  畑田 清隆 ,  若嶋 勇一郎
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 須藤 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-358904
公開番号（公開出願番号）：特開2006-159165
出願日： 2004年12月10日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】短時間で昇温可能な、マイクロスケールの高温高圧流体反応装置、及び高温高圧流体製造装置を提供する。【解決手段】作動流体を高温高圧場において反応させるための高温高圧流体反応装置において、予熱器内の金属細管を、直接通電又は電磁誘導方式により発熱させ、金属細管内の作動流体を間接熱交換により昇温させる、予熱器、反応器、及び冷却器を順次配設した高温高圧流体反応装置、及び該予熱器よりなる高温高圧流体製造装置。【効果】 高温高圧条件を迅速に作り、効率よく温度制御と化学反応を行わせることが可能である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

予熱器、反応器、及び冷却器を配設した高温高圧流体反応装置において、金属細管で構成された予熱器、及び該金属細管内の作動流体を、直接通電又は電磁誘導方式により間接加熱する手段、を有することを特徴とする高温高圧流体反応装置。

IPC (2件)：

B01J 3/00 ,  B01J 3/04

FI (3件)：

B01J3/00 A ,  B01J3/04 D ,  B01J3/04 F

Fターム (3件)：

3K059AB23 ,  3K059AD02 ,  3K059CD75

引用特許：

出願人引用 (3件)

• マイクロリアクターチップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-370406   出願人：三上幸一, 山中正浩, 工藤憲一, 富士電機システムズ株式会社
• スルホン酸型界面活性剤含有組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-310489   出願人：花王株式会社
• ラクタムの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-316889   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (2件)

• 特表平6-511190
  
• 有機化合物の分解方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-310141   出願人：富士写真フイルム株式会社