特許
J-GLOBAL ID：200903002459089452
耐紫外線性ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
武井 英夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-285330
公開番号（公開出願番号）：特開2001-109131
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 310nmよりも短波長の光を用いるフォトリソ工程においても、接着剤層が光劣化を起こすこと無く、フッ素ポリマーよりなるペリクル膜とペリクルフレームの接着強度も高く、しかも接着部位に微小しわ等の歪みが発生しないような加工性に優れた接着剤層を有する耐紫外線性ペリクルを提供すること。【解決手段】 接着剤層がシリコーン系接着剤および有機フッ素系接着剤で形成されてなり、ペリクル膜が接着剤層によってペリクルフレームの一端面に接着固定された耐紫外線性ペリクル。
請求項（抜粋）：
ペリクル膜が接着剤層によってペリクルフレームの一端面に接着固定されたペリクルにおいて、該接着剤層がシリコーン系接着剤および有機フッ素系接着剤で形成してなることを特徴とする耐紫外線性ペリクル。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, C09J 7/02
, H01L 21/027
G03F 1/14 J
, C09J 7/02 Z
, H01L 21/30 502 P
2H095BA07
, 2H095BB30
, 2H095BC33
, 2H095BC39
, 4J004AA02
, 4J004AA06
, 4J004AA11
, 4J004AB01
, 4J004CA05
, 4J004CB03
, 4J004CC02
, 4J004CE03
, 4J004EA06
, 4J004FA04
, 4J004FA05
