特許

J-GLOBAL ID：200903002461299677

ウエファ状の物品、特にシリコンウエファ用の支持体

発明者： ズムニチ、フランツ
出願人/特許権者： エスイーゼット・セミコンダクター-イクイプメント・ツベヘーア・フュア・ジ・ハルブライターフェルティグング・アーゲー
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-505330
公開番号（公開出願番号）：特表平11-515139
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】ウエファ状の物品をエッチングする間の、ウエファ状の物品、特にシリコンウエファ用の支持体(100)において、この支持体(100)の、前記物品に向いた面(10)に、圧縮ガスが供給される環状のノズル(8)が設けられている。また、物品と面する面(10)にはリング(108)が設けられている。このリング(108)内には、負圧を発生しかつ支持体(100)内に収容された手段(111)にライン(110)を介して導かれた少なくとも1つの開口部(107)が設けられている。リング(108)内に発生される負圧により、物品は、ベルヌーイの原理によりリング(108)の外に発生する負圧により負荷的に支持されて、支持体(100)のリング(108)に支持され、カム等の横方向の支持体を必要としないで、面(10)に平行な方向への変位が防止される。このような横方向の支持体が不要なために、ウエファ状の物品から処理液を吹き飛ばすことが妨げられない。

請求項（抜粋）：

ウエファ状の物品をエッチングする間の、ウエファ状の物品、特にシリコンウエファ用の支持体(100)であって、この支持体(100)の、前記物品に向いた好ましくは円形の面(10)に設けられかつ圧縮ガスが供給される環状のノズル(8)と、前記物品用の支持部として用いられかつ前記環状のノズル(8)の内側に設けられている前記支持体(100)の、前記物品に向いた面(10)に、設けられている少なくとも1つの環状の突起(108,120)とを有する支持体において、 前記環状の突起(108,120)の内側の、前記物品に向いた面(10)には、負圧が供給される少なくとも1つの開口部(107)が設けられていること、を特徴とする支持体。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H01L 21/68 C ,  H01L 21/306 K

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-018967
  
• 特公平6-082751
  
• 特開昭64-075072