特許
J-GLOBAL ID：200903002477293830
集積回路のレイアウト補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140494
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349943
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 斜め方向での幅や間隔が、設計規則を満たしていないレイアウト図形に関して、設計規則を満たす様に補正することができる、集積回路のレイアウト補正方法を提供する。【構成】 集積回路中のレイアウトの各マスク層の同電位のレイアウト図形毎に、レイアウト図形の多角形の頂点の座標間の距離が、設計規則で定められた前記マスク層の最小幅未満であり、頂点間の中間点が前記多角形の内部に存在する二頂点の組合せを求める過程106と、過程106において求めた二頂点の組合せに関して、一辺の長さが設計規則で定められた最小幅以上であり前記レイアウト図形の多角形と同一のマスク層の矩形を、その矩形の中心座標が二頂点の中間点となるように発生し挿入する過程107とを、順に行なう。
請求項（抜粋）：
集積回路中のレイアウトの各マスク層の同電位のレイアウト図形毎に、レイアウト図形の多角形の頂点の座標を求める第1の過程と、前記第1の過程で求めた頂点の座標間の距離が、設計規則で定められた前記マスク層の最小幅未満であり、頂点間の中間点が前記多角形の内部に存在する二頂点の組合せを求める第2の過程と、前記第2の過程において求めた二頂点の組合せに関して、一辺の長さが設計規則で定められた最小幅以上であり前記レイアウト図形の多角形と同一のマスク層の矩形を、その矩形の中心座標が二頂点の中間点となるように発生し挿入する第3の過程とを、順に行なうことを特徴とする集積回路のレイアウト補正方法。
IPC (3件)：
H01L 21/82
, G06F 15/60 370
, H01L 27/04
