階調マスク

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：酒井一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-049837
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094004
出願日： 1992年03月06日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：

【要約】【構成】基板上に、感光性レジストを塗布し、次いで露光、現像してパターニングを行なうフォトリソグラフィ工程に使用するマスクにおいて、光透過率が少なくとも3段階に異なるパターン部分を有することを特徴とする階調マスク。【効果】本発明の階調マスクは、同一基板に複数のパターンを形成する際に、感光性樹脂の塗布及び露光を1回のみとすることができ、高精度の位置合わせによる歩留まりの低下を防ぐことができる。従って工程の簡略化、コストを低減させることができるので、回路基板、ディスプレー、半導体等を製造する際、または印刷工程におけるフォトリソグラフィ用マスクとして特に有用である。

請求項（抜粋）：