特許
J-GLOBAL ID：200903002485612082
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169781
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021314
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 オフアクシスアライメント系を備えた投影露光装置のベースライン管理を高精度に行なう。【構成】 ウェハステージ上の基準板に、レチクルマークとアライメントされる基準マークFM2 と、オフアクシス系によってアライメントされる基準マークFM1 とを設け、2つの基準マークFM1 、FM2 を、ステージ静止状態でほぼ同時に計測する。さらにそのときのステージ位置で、露光時に使う干渉計とオフアクシスアライメント時に使う干渉計とを同一測定値にプリセットする。
請求項（抜粋）：
マスクを保持するマスクステージと、該マスクのパターンを投影する投影系と、該投影系の結像面内に感光基板を保持して2次元移動する基板ステージと、前記投影系の光軸から一定間隔だけ離れた位置に検出中心点を有し、前記感光基板上のマークを検出するアライメント系と、前記基板ステージの座標位置を測定するために、前記アライメント系の検出中心点で直交する2本の測定軸を備えた1対の第1干渉計と、前記投影系の光軸位置で直交する2本の測定軸を備えた1対の第2干渉計とを有し、前記投影系によって投影され得る前記マスク上の特定点の座標と前記アライメント系の検出中心点の座標との相対位置関係を計測してベースライン量を求めた後、前記アライメント系によって前記感光基板をアライメントし、該アライメント結果と前記ベースライン量に基づいて前記基板ステージを移動させて前記感光基板を前記投影系による露光位置に位置決めする装置において、前記基板ステージ上に固定されるとともに、前記アライメント系によって検出され得る第1基準マークと、該第1基準マークを前記検出中心点に位置付けたとき前記マスクの特定点と一義的な位置関係に設定され得る第2基準マークとが形成された基準板と;該基準板上の第1基準マークと第2基準マークとの配置を基準として前記ベースライン量を計測する際に位置決めされる前記基板ステージの停止位置で、前記第1干渉計の測定値と前記第2干渉計の測定値とがいずれか一方の測定値に等しくなるように設定する設定手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 9/00
