特許
J-GLOBAL ID：200903002488193056

パターン欠陥検査装置および方法

発明者：
西山 英利

西山 英利 について

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志村 啓

志村 啓 について

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宇都 幸雄

宇都 幸雄 について

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野口 稔

野口 稔 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-121741
公開番号（公開出願番号）：特開2008-275540
出願日： 2007年05月02日
公開日（公表日）： 2008年11月13日
要約：
【課題】試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。【解決手段】ウエハ1面のほぼ同一領域について、2つの検出器702を用いて、タイミングを異ならして表面を検出し、2つの検出器702からの出力信号を加算し、平均することにより、ノイズを除去するように構成した。このように構成すれば、ウエハ1上の同一領域に多数の照明光を同時に照射することはないので、多数の照明光の干渉によるノイズが発生させることなく、他の原因によるノイズを除去でき、試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現することができる。【選択図】図1
請求項１：
試料面上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、 試料面上の複数の領域を照明する照明手段と、 上記照明手段で照明された上記試料面の複数の領域光学像を形成する結像手段と、 上記結像手段で結像させた光学像を検出して上記試料面からの反射光を検出する複数の検出手段と、 上記複数の検出手段で検出された反射光を処理して上記試料面上の欠陥を検出する欠陥検出手段と、 を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (38件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA05 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051BB01 ,  2G051BB07 ,  2G051BC01 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC09 ,  2G051CD06 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA16 ,  4M106CA38 ,  4M106CA40 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB13 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (23件)
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