特許

J-GLOBAL ID：200903002491312988

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス

発明者： 本永 稔明 ,  横山 寿文 ,  岡村 崇史 ,  木名瀬 良紀 ,  毛利 弘 ,  藤川 潤二
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-355522
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174973
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 タンタルシリサイド系材料の優れた加工特性、加工後の化学的安定性等を維持しつつ、石英基板とのエッチング選択比を向上したハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス。【解決手段】 透明基板101上のハーフトーン位相シフト層が、タンタル、シリコン、及び、酸素を主成分とする1層103と、タンタルを主成分とし実質的にシリコンを含まない1層102とを少なくとも含む多層膜で構成されているハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス104。

請求項（抜粋）：

透明基板上のハーフトーン位相シフト層が、タンタル、シリコン、及び、酸素を主成分とする1層と、タンタルを主成分とし実質的にシリコンを含まない1層とを少なくとも含む多層膜で構成されていることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BC11