特許

J-GLOBAL ID：200903002507111805

外被にパ-オキサイド加硫系ゴムを用いたホ-ス及びその成型法

発明者： 小坂 信広
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-224394
公開番号（公開出願番号）：特開2009-058010
出願日： 2007年08月30日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

【課題】パ-オキサイド加硫系外被ゴムを用いたホ-スの改良であり、後工程の癖付けの成型のために、1次加硫では半加硫を確保し、2次加硫で蒸気加硫や窒素雰囲気下で加硫を実施する必要があるが、加硫槽の強度を大幅に向上させる必要があったり、設備費用及びランニングコストが格段に高くなり、更に生産性が劣るという問題点がある。【解決手段】内側から、内管ゴム層2、補強層3、外被ゴム層4を積層して構成された複合ホ-スの製法であって、外被ゴムが2層のパ-オキサイド加硫系ゴムであり、外被ゴムの外側層のゴム4aの最適加硫時間が、内側層のゴム4bの最適加硫時間に対して40〜80%である外被にパ-オキサイド加硫系ゴムを用いた癖付けされたホ-スであり、好ましくは、ホ-スの最内側に更に好ましくは流体不透過性に優れた樹脂層を形成した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内側から、内管ゴム層、補強層、外被ゴム層を積層して構成された複合ホ-スの製法であって、外被ゴムが2層のパ-オキサイド加硫系ゴムであり、外被ゴムの外側層のゴムの最適加硫時間が、内側層のゴムの最適加硫時間に対して40〜80%であることを特長とする外被にパ-オキサイド加硫系ゴムを用いた癖付けされたホ-ス。

IPC (4件)：

F16L 11/08 ,  B32B 1/08 ,  B32B 25/10 ,  B29C 35/02

FI (4件)：

F16L11/08 ,  B32B1/08 Z ,  B32B25/10 ,  B29C35/02

Fターム (74件)：

3H111AA04 ,  3H111BA13 ,  3H111BA25 ,  3H111CA03 ,  3H111CB05 ,  3H111CB14 ,  3H111CC07 ,  3H111DA09 ,  3H111DB08 ,  3H111EA12 ,  3H111EA17 ,  4F100AA37 ,  4F100AH02C ,  4F100AH02D ,  4F100AK01E ,  4F100AK28 ,  4F100AK42 ,  4F100AK48 ,  4F100AK69 ,  4F100AN00A ,  4F100AN00C ,  4F100AN00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100CA03C ,  4F100CA03D ,  4F100DA11 ,  4F100DG01B ,  4F100DH00B ,  4F100EJ06C ,  4F100EJ06D ,  4F100GB32 ,  4F100JD05E ,  4F100JJ03 ,  4F100JL02 ,  4F100YY00D ,  4F203AA45 ,  4F203AB03 ,  4F203AB18 ,  4F203AD05 ,  4F203AD16 ,  4F203AG03 ,  4F203AG08 ,  4F203AH81 ,  4F203AR11 ,  4F203DA11 ,  4F203DB02 ,  4F203DC01 ,  4F203DC03 ,  4F203DD05 ,  4F203DK02 ,  4F203DK13 ,  4J002AC071 ,  4J002AC091 ,  4J002AC111 ,  4J002AC141 ,  4J002BB071 ,  4J002BB151 ,  4J002BB161 ,  4J002BB181 ,  4J002DA037 ,  4J002EK016 ,  4J002EK026 ,  4J002FD017 ,  4J002FD146 ,  4J002FD150 ,  4J002GF00 ,  4J002GM00