特許
J-GLOBAL ID：200903002512013633
マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195416
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038341
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを有効に補正・軽減させる。【解決手段】少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏倚した複数の発光部101,102を持つ光源10側からの複数ビームを光偏向器30により偏向させ、走査結像光学系41,42,43により被走査面50上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置の走査結像光学系であって、マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈折面を有し、該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なくとも1ビームの入射位置における、該補正屈折面の、副走査断面内の傾きが該ビームの上記走査線曲がりを補正するように、上記入射位置に応じて定められている。
請求項（抜粋）：
少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置の走査結像光学系であって、マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈折面を有し、該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なくとも1ビームの入射位置における、該補正屈折面の、副走査断面内の傾きが、該ビームの上記走査線曲がりを補正するように、上記入射位置に応じて定められていることを特徴とするマルチビーム走査装置の走査結像光学系。
IPC (3件)：
G02B 26/10
, G02B 26/10 103
, B41J 2/44
G02B 26/10 B
, G02B 26/10 103
, B41J 3/00 D
