特許

J-GLOBAL ID：200903002531990593

石油製品製造装置用洗浄剤組成物及び洗浄方法

発明者： 岡田 知巳 ,  松下 景太 ,  高崎 聖一 ,  喜平田 行紀
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンエナジー
代理人 (1件)： 藤吉 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-287889
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097493
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：

【要約】【課題】 石油製品や石油化学製品を製造する石油精製装置や石油化学製造装置に付着した固体状有機物を洗浄するための洗浄剤及びその洗浄方法を提供する【解決手段】 石油製品製造装置に堆積した固体状有機物を除去するための洗浄剤であって、(A)アニオン性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤からなるA成分と、(B)炭素数9〜18の芳香族炭化水素及び/又はナフテン炭化水素からなるB成分を含有し、A成分とB成分の含有重量の比(A/B)が、0.25〜2.5である。特に、A成分のアニオン性界面活性剤がスルホン酸塩及び/又は硫酸エステル塩であり、A成分の非イオン性界面活性剤がポリアルキレングリコール及び/又は脂肪酸アルカノールアミドであることが好ましい。

請求項（抜粋）：

石油製品製造装置に堆積した固体状有機物を除去するための洗浄剤であって、(A)アニオン性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤からなるA成分と、(B)炭素数9〜18の芳香族炭化水素及び/又はナフテン炭化水素からなるB成分を含有し、A成分とB成分の含有重量の比(A/B)が、0.25〜2.5である石油製品製造装置用洗浄剤組成物。

IPC (8件)：

C11D 3/43 ,  B08B 3/08 ,  C11D 1/12 ,  C11D 1/52 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/83 ,  C11D 3/18 ,  C11D 10/02

FI (8件)：

C11D 3/43 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 1/12 ,  C11D 1/52 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/83 ,  C11D 3/18 ,  C11D 10/02

Fターム (15件)：

3B201AA33 ,  3B201AB51 ,  3B201BB01 ,  3B201BB94 ,  4H003AB19 ,  4H003AB29 ,  4H003AC11 ,  4H003AC13 ,  4H003AC23 ,  4H003DA12 ,  4H003DB01 ,  4H003EB04 ,  4H003ED02 ,  4H003ED04 ,  4H003FA16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-332516   出願人：東邦化学工業株式会社
• 洗浄組成物及び洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-316486   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 水系洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-293725   出願人：花王株式会社
• 特開平2-095487