特許

J-GLOBAL ID：200903002551592322

粒子光学装置におけるサンプルの粒子光学画像取得方法

発明者： レムコ テオドリュス ヨーハネス ペートリュス ヒュールツ ,  マイケル フレデリック ヘイルズ
出願人/特許権者： エフ イー アイ カンパニ
代理人 (3件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-310320
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134394
出願日： 2003年09月02日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】 電子顕微鏡画像化するための相対的に厚みを有するサンプルにおいて、興味ある細部は、しばしば、サンプル内部に位置しており、SEM画像の形で直接画像化することができない。【解決手段】 本発明によると、興味ある細部を有する断面を露出するために、所望の断面を露出するための様式にて、凍結されたサンプルは、イオン研磨を施される。その後、露出された断面はさらに、昇華を介して、制御された様式にて腐蝕され、これにより興味ある詳細は、非常に正確な様式にてアプローチされ、その良好な細部を可視化可能となる。その後、最終的に所望のSEM画像を得ることが可能となる。この工程を繰り返すことにより、膨大な数の連続的な断面を画像化することができ、サンプルの空間的な表示が可能となる。

請求項（抜粋）：

粒子光学装置を用いて、サンプルの粒子光学画像を取得する方法であって、順番に: 凍結状態にある前記サンプル(18)を真空環境下に置き、イオンビーム(20)を使って研磨工程を行い、これにより、対表面が設けられており、前記真空環境下において、前記の凍結されたサンプルの温度が、対表面の温度よりも高く、かつ前記研磨工程により、前記サンプルの前もって選択された断面(32)を露出させ; 前記サンプルと前記対表面との温度差は増加し、かつ該温度差の増加は、前記サンプルの露出された断面において昇華を生じさせ; 前記サンプルの前記露出された断面に関する少なくとも一部の画像が、走査型の集束電子ビーム(24)によって形成される; ことで特徴づけられる、方法。

IPC (5件)：

H01J37/28 ,  G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  G01N23/225 ,  H01J37/317

FI (6件)：

H01J37/28 B ,  G01N1/32 B ,  G01N23/225 ,  H01J37/317 D ,  G01N1/28 G ,  G01N1/28 F

Fターム (31件)：

2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001AA09 ,  2G001AA10 ,  2G001AA20 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001GA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA14 ,  2G001LA01 ,  2G001PA07 ,  2G001QA01 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA20 ,  2G052AA36 ,  2G052AD32 ,  2G052CA05 ,  2G052EB13 ,  2G052EC14 ,  2G052EC18 ,  2G052EC22 ,  2G052GA33 ,  5C033UU03 ,  5C033UU10 ,  5C034DD01 ,  5C034DD09

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-181529