特許
J-GLOBAL ID:200903002558100310
溶融液製造用坩堝支持具、溶融液製造装置及び酸化物結晶製造装置、並びに溶融液及び結晶製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡邉 順之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-005484
公開番号(公開出願番号):特開2000-203983
出願日: 1999年01月12日
公開日(公表日): 2000年07月25日
要約:
【要約】【課題】 超電導体製造原料等の酸化物融液形成時に起こる坩堝からの融液の流出を簡便かつ効率的に阻止できる酸化物融液製造技術の提供。【解決手段】 2以上の単結晶立方体等の単結晶多面体を隣接する単結晶多面体相互の稜が一致、交差及び接することがないように上下に積み重ねた支持具上に坩堝を載置し、その坩堝中で酸化物を加熱融解して酸化物溶融液を形成し、その後結晶化させて超電導体等の酸化物結晶を製造する。
請求項(抜粋):
2以上の単結晶多面体を隣接する単結晶多面体相互の稜を一致、交差及び接することなく上下に積み重ねた酸化物溶融液製造用坩堝支持具。
IPC (2件):
C30B 15/00 ZAA
, C30B 29/22 501
FI (2件):
C30B 15/00 ZAA Z
, C30B 29/22 501 B
Fターム (8件):
4G077AA02
, 4G077BC53
, 4G077CF00
, 4G077EG01
, 4G077EG02
, 4G077EG18
, 4G077HA08
, 4G077PA16
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