特許

J-GLOBAL ID：200903002565221025

基板ホルダーおよびそれを備える基板加工装置

発明者： 清田 航 ,  斎藤 理一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-253556
公開番号（公開出願番号）：特開2004-090137
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】貫通孔を備える基板を確実に吸着固定することのできる基板ホルダーを提供する。【解決手段】貫通孔11を有する基板10が吸着固定されるキャリアプレート20と、該キャリアプレート20が吸着固定されるテーブル30と、該テーブル30を収容するための凹部を備えたステージホルダー40とを有する。キャリアプレート20およびテーブル30は多孔質体よりなる。キャリアプレート20は、基板11の貫通孔11を除く部分が吸着固定され、テーブル30は、キャリアプレート20が吸着固定される面以外の面が、上記凹部の側面および底面によって塞がれるように構成されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

多孔質体よりなる吸着部材を有し、貫通孔を有する基板が前記吸着部材を介して真空吸着により固定される基板ホルダーであって、 前記吸着部材は、前記基板が固定される吸着面に少なくとも前記貫通孔を塞ぐ禁吸着部位を有し、前記基板の前記貫通孔以外の部分が吸着固定されるように構成されていることを特徴とする基板ホルダー。

IPC (8件)：

B23Q3/08 ,  B41F15/08 ,  B41F15/20 ,  B41F15/26 ,  B41J2/045 ,  B41J2/055 ,  B41J2/16 ,  H01L21/68

FI (7件)：

B23Q3/08 A ,  B41F15/08 303E ,  B41F15/20 ,  B41F15/26 A ,  H01L21/68 P ,  B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A

Fターム (12件)：

2C035AA06 ,  2C035FA30 ,  2C035FB30 ,  2C057AF93 ,  2C057AP72 ,  3C016DA05 ,  3C016DA11 ,  5F031CA04 ,  5F031HA02 ,  5F031HA14 ,  5F031MA21 ,  5F031PA14