特許
J-GLOBAL ID：200903002567407819
検証方法及び検証装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-107057
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268265
出願日： 2007年04月16日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】OPC後のマスクパターンに対する、高精度で短TAT化が可能な検証方法を提供する。【解決手段】OPC後のマスクパターン20から検出される欠陥部21を含む検証領域22に対して、リソグラフィシミュレーション部11によりシミュレーションを行い、ウエハ上におけるContour図形23を生成し、ニューラルネットワーク処理部12により、予め、OPCで生じる欠陥の属性を学習させた第1のニューラルネットワークに、欠陥部21を合成した検証領域22の設計データ24を入力して欠陥の属性を判定し、ニューラルネットワーク処理部13により、予め、Contour図形23と欠陥の属性の組み合わせの合否を学習させた第2のニューラルネットワークに、今回生成されたContour図形23及び、判定された欠陥の属性を入力して合否判定を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光近接効果補正後のマスクパターンの検証領域に対して、リソグラフィシミュレーション部がシミュレーションを行い、ウエハ上における予想転写図形を生成する工程と、
予め欠陥の属性を学習した第1のニューラルネットワーク処理部が、前記検証領域の設計データを取得して前記属性を判定する工程と、
予め前記予想転写図形と前記属性の組み合わせの合否を学習した第2のニューラルネットワーク処理部が、前記予想転写図形及び、判定された前記属性に基づいて合否判定する工程と、
を有することを特徴とする検証方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H095BD03
, 2H095BD04
, 2H095BD26
, 2H095BD27
