特許
J-GLOBAL ID：200903002575614440
ダイヤモンドのエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上代 哲司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-278548
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132254
出願日： 1992年10月16日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 エッチング後の表面が平坦で、マスク材料に対するエッチング選択比が高いダイヤモンドの選択エッチングを可能にする。【構成】 不活性ガスと酸素原子を含むガスとの混合ガスを用い、O原子の混合比を特定の範囲に選んでダイヤモンドをプラズマエッチングする。【効果】 平坦で選択比の大きいエッチングが可能になり、優れた特性を持つダイヤモンドデバイスを自由に構成することができる。また、ダイヤモンドを用いたメス、針の作製、MCM基板、ヒートシンク、電子放出素子、歯車やマイクロマシン等の製造においても微細な加工が可能となる。
請求項（抜粋）：
ダイヤモンドの表面にマスクを形成し、不活性ガスと酸素原子を含むガスとの混合ガスを用いてダイヤモンドを選択的にプラズマエッチングする方法において、混合ガス中の酸素原子の混合比(2×[O]/[不活性ガス+酸素原子を含むガス])が0.01%以上で20%以下の範囲であることを特徴とするダイヤモンドのエッチング方法。
IPC (2件)：
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