不溶性陽極を使用する錫めっき方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中前富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-362408
公開番号（公開出願番号）：特開2005-126753
出願日： 2003年10月22日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】錫めっき浴の濃度を一定に維持管理するための簡便で経済的な不溶性陽極を使用する錫めっき方法を提供する。【解決手段】めっき対象物を陰極18として不溶性陽極19を使用する錫めっき方法において、主めっき槽11の他に、水素イオンは通し錫イオンは通し難い隔膜12で区分された陽極室13及び陰極室14を有し、しかも陽極室13には溶解性錫陽極20を備え、陰極室14は金属イオンを実質含まないベース酸で満たされた副反応槽15を設け、主めっき槽11と陽極室13の間にめっき液の循環回路を形成し、主めっき槽11の反応により起こる錫イオン濃度の減少を補償する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

めっき対象物を陰極として不溶性陽極を使用する錫めっき方法において、主めっき槽の他に、水素イオンは通し錫イオンは通し難い隔膜で区分された陽極室及び陰極室を有し、しかも前記陽極室には溶解性錫陽極を備え、前記陰極室は金属イオンを実質含まないベース酸で満たされた副反応槽を設け、前記主めっき槽と前記陽極室の間にめっき液の循環回路を形成し、前記主めっき槽の反応により起こる錫イオン濃度の減少を補償することを特徴とする不溶性陽極を使用する錫めっき方法。

IPC (4件)：

C25D21/14 , C25D3/30 , C25D17/00 , C25D17/10

FI (4件)：

C25D21/14 B , C25D3/30 , C25D17/00 C , C25D17/10 101A

Fターム (3件)：

4K023AA17 , 4K023BA06 , 4K023BA29

引用特許：

出願人引用 (2件)

電気錫合金めっき方法及び電気錫合金めっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-023414 出願人：上村工業株式会社
メッキ設備
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-512202 出願人：レアーロナルゲーエムベーハー

審査官引用 (2件)

特開平2-070087
金属の電気メッキ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-332340 出願人：旭硝子株式会社

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