特許

J-GLOBAL ID：200903002604484799

露光条件測定方法及びそれを用いた露光装置

発明者： 片岡 義治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-294669
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114158
出願日： 1998年10月01日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイス製造の際のリソグラフィー工程において露光量を適切に設定して高集積度のパターンが容易に得られる露光条件測定方法及びそれを用いた露光装置を得ること。【解決手段】 レチクル上のパターンを互いに異なる露光条件で感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンからの輝度情報を光電変換素子上に投影する投影工程と、前記投影工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分に基づいて前記パターンを前記感光基板に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有する露光条件測定方法において、前記感光パターンは1方向に周期性を有するパターンで、該感光パターンの計測方向と該光電変換素子の配列方向の1方向とが平行でないまたは直交しない角度に設定すること。

請求項（抜粋）：

レチクル上のパターンを互いに異なる露光条件で感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンからの輝度情報を光電変換素子上に投影する投影工程と、前記投影工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分に基づいて前記パターンを前記感光基板に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有する露光条件測定方法において、前記感光パターンは1方向に周期性を有するパターンで、該感光パターンの計測方向と該光電変換素子の配列方向の1方向とが平行でないまたは直交しない角度に設定することを特徴とする露光条件測定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 526 B

Fターム (18件)：

5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA02 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC01 ,  5F046DC02 ,  5F046DC10 ,  5F046DD03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046FA10 ,  5F046FA16 ,  5F046FC04