特許

J-GLOBAL ID：200903002611104810

露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 平野 朝彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-126504
公開番号（公開出願番号）：特開2001-307998
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 プリアライメントにおいてエラーが発生したときのオペレータの判断を極力少なくし、自動的に正常シーケンスへ回復可能にすることで、露光装置の位置合わせ過程におけるオペレータの手間、負担を軽減させ、スループットを向上させる。【解決手段】 プリアライメントの際にウエハ位置の計測不能が発生したとき、履歴情報として記憶される過去にプリアライメントにおけるウエハ位置計測が、正常に終了したときのウエハ計測位置の複数の計測情報に基づいて算出した計測位置を基準としてウエハ位置を再計測する。

請求項（抜粋）：

レチクル原板上に描かれたパターンをウエハ上に配列された複数の領域に投影光学系を介して順次投影するに先立ち前記レチクル原板に対してウエハの位置合わせを行う露光装置において、プリアライメントの際にウエハ位置の計測不能が発生したとき、履歴情報として記憶される複数の計測情報に基づいて算出した計測位置を基準としてウエハ位置を再計測することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/02

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 520 A

Fターム (6件)：

5F046BA03 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06 ,  5F046FC08