特許

J-GLOBAL ID：200903002611770292

パターン形成方法

発明者： 乾 信一郎 ,  広瀬 英一郎 ,  北村 弘司
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-007037
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198924
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】本発明は、基板上に、所定の機能成分からなる所定形状の膜パターンを形成するパターン形成方法に関し、印刷による微細パターン化への障害及び薄膜工程のコスト高を解決し、簡便でかつ100μm以下のパターン形成を可能とする。【構成】基板表面上に感光性樹脂の被膜を形成し、この被膜を所定のパターンに露光して現像することにより上記膜パターンが形成される部分の被膜を除去し、基板を所望とする機能成分を含有する溶液に晒し、その後被膜を基板上から除去する。

請求項（抜粋）：

基板上に所定の機能成分からなる所定形状の膜パターンを形成するパターン形成方法において、基板表面に感光性樹脂の被膜を形成し、前記被膜を所定のパターンに露光して現像することにより前記膜パターンが形成される部分の前記被膜を除去し、前記基板を所定の機能成分を含有する溶液に晒し、その後前記被膜を前記基板上から除去することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (2件)：

H05K 3/10 ,  H05K 3/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-296790
  
• 特開昭62-023195
  
• 特開平2-273926