特許
J-GLOBAL ID：200903002616177450

真空チャンバーの減圧方法

発明者：
釆山 和弘

釆山 和弘 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338401
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141291
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：
【要約】【課題】 ベーキング工程に要する時間を短縮した真空チャンバーの減圧方法を提供する。【解決手段】 大気開放した後の真空チャンバー2を真空排気する際、その初期排気過程において、真空チャンバー2内でプラズマを生成させ、真空チャンバー2の内壁面に存在する吸着ガスとプラズマとの相互作用により、真空チャンバー2の内壁面に吸着した水分を主成分とする吸着ガスを効率良く除去することができるので、その後のベーキング工程に要する時間を短縮して、超高真空域の真空度を得ることができる。
請求項（抜粋）：
ベーキング工程に先行して、またはベーキング工程と同時に、真空チャンバーの内部にプラズマを発生させることにより、前記真空チャンバーの内壁に吸着した吸着ガスを除去すること特徴とする真空チャンバーの減圧方法。
IPC (5件)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/08 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44
FI (5件)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 N ,  B01J 19/08 E ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J
Fターム (18件)：
4G075AA57 ,  4G075CA05 ,  4G075CA47 ,  4G075EB41 ,  4G075FC13 ,  4K029BD01 ,  4K029DA09 ,  4K029FA09 ,  4K030DA06 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EB12 ,  5F045EB15 ,  5F045EE14 ,  5F045EH12 ,  5F045HA01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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