特許
J-GLOBAL ID：200903002618501190
光デイスク基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-119157
公開番号（公開出願番号）：特開平5-314546
出願日： 1992年05月12日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 転写性の良好な光デイスク基板を安定して成形する。【構成】 冷却完了後の型開開始前に固定金型1に備えられた離型用エアー通路にエアー13の供給を開始し、型開開始と同時に可動金型3に備えられた離型用エアー通路にエアー14の供給を開始させるようにした。
請求項（抜粋）：
鏡面を有する固定金型とスタンパーをセツトしてある可動金型を型締めし、中央のスプールより熱可塑性樹脂を射出充填する光デイスク基板の製造方法において、冷却完了後の型開開始前に固定金型に備えられた離型用エアー通路にエアーの供給を開始し、型開開始と同時に可動金型に備えられた離型用エアー通路にエアーの供給を開始させるようにしたことを特徴とする光デイスク基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 521
, B29C 45/43
, B29L 17:00
