薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-247571
公開番号（公開出願番号）：特開平6-103535
出願日： 1992年09月17日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】【目的】優れた信頼性と高いパターン精度を兼ね備えた電極を有する薄膜磁気ヘッドと、その製造方法を提供する。【構成】MRヘッドの電極膜を、Wから成る低抵抗層と、Nbから成る密着層で構成する。また、この多層膜を、フッ素系ガスプラズマを用いた反応性エッチング法でエッチングし、パターン作製する。【効果】密着力が大きい電極膜が得られる。また、MRセンサ部分にダメージを与えずに、高精度なエッチング電極パターンが作製できる。

請求項（抜粋）：

磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜に電流を供給する電極膜とを含み、磁気媒体上に記録された情報を再生する薄膜磁気ヘッドにおいて、前記電極膜が、フッ素ラジカルもしくはフッ素イオンを含むプラズマを用いた反応性エッチング法でパターン作製できる材料から成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

前のページに戻る