特許

J-GLOBAL ID：200903002626976040

X線発生装置及びX線装置

発明者： 近藤 洋行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-016807
公開番号（公開出願番号）：特開2000-215998
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 標的物質をテープ状、ワイヤー状、薄膜状(テープ基板上)に加工することなく、或いは前記加工ができない標的物質であっても、連続的に供給することができるLPXと、該LPXを備えたX線装置を提供すること。【解決手段】 減圧された容器100内の標的物質にパルスレーザー光101を集光して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマ109より輻射されるX線を利用するX線発生装置において、前記標的物質の形態を微粒子状または液体状とし、その標的物質105を開口106より自由落下させ、落下中の標的物質に前記パルスレーザー光101を集光することを特徴とするX線発生装置。

請求項（抜粋）：

減圧された容器内の標的物質にパルスレーザー光を集光して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置において、前記標的物質の形態を微粒子状または液体状とし、その標的物質を開口より自由落下させ、落下中の標的物質に前記パルスレーザー光を集光することを特徴とするX線発生装置。

Fターム (4件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09