特許
J-GLOBAL ID:200903002644383391
光学活性ポリチオフェン複合体とその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-107154
公開番号(公開出願番号):特開2001-288341
出願日: 2000年04月07日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】【課題】 高い光応答性を示し、明確な光応答反応を示す、容易に調製することのできる新しい光学活性高分子材料を提供する。【解決手段】 異なる構造を有する少なくとも2種類以上のポリチオフェン誘導体を含有する光学活性ポリチオフェン複合体とする。
請求項(抜粋):
異なる構造を有する2種類以上のポリチオフェン誘導体を含有し、少なくとも1種のポリチオフェン誘導体がキラルであることを特徴とする光学活性ポリチオフェン複合体。
IPC (2件):
C08L 65/00
, C08J 3/20 CEZ
FI (2件):
C08L 65/00
, C08J 3/20 CEZ Z
Fターム (7件):
4F070AA58
, 4F070FA04
, 4F070FA17
, 4J002CE001
, 4J002CE002
, 4J002GP00
, 4J002GQ00
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