特許

J-GLOBAL ID：200903002646017724

コバルト-鉄-ニッケル磁性膜の製造方法

発明者： 鈴木 文武 ,  細野 和真 ,  田中 真一 ,  押木 満雅 ,  飯島 国雄
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-239510
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089422
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 組成がコバルト-鉄-ニッケルである磁性膜に関に関し、耐食性が良好なコバルト-鉄-ニッケル磁性膜の製造法を提供することを目的とする。【構成】 コバルト,鉄,ニッケルを含んだめっき浴のイオン比を、コバルト :鉄 : ニッケル = 4〜13 : 1〜4 : 24〜42、とする。

請求項（抜粋）：

コバルト,鉄,ニッケルを含んだめっき浴のイオン比を、コバルト : 鉄 : ニッケル = 4〜13 : 1〜4 : 24〜42、としたことを特徴とするコバルト-鉄-ニッケル磁性膜の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/852

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-071015