特許
J-GLOBAL ID：200903002648179276
フォトマスクの静電気による破壊を防止する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-389468
公開番号（公開出願番号）：特開2002-189286
出願日： 2000年12月21日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスクの静電気による破壊を簡易にかつ確実に防止する方法を提供すること。【解決手段】 ガラス基板の片面にクロム膜と酸化クロム膜をこの順に積層した後、所定の遮光膜パターンを形成したフォトマスクの該遮光膜パターンを有する面の表面に透明導電性膜を形成し、相互に離間した遮光膜同士を該透明導電性膜により接合することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ガラス基板の片面にクロム膜と酸化クロム膜をこの順に積層した後、所定の遮光膜パターンを形成したフォトマスクの該遮光膜パターンを有する面の表面に透明導電性膜を形成し、相互に離間した遮光膜同士を該透明導電性膜により接合することを特徴とするフォトマスクの静電気による破壊を防止する方法。
Fターム (1件)：
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