感熱性中規模デポジションのレーザ処理

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：廣江武典 , 武川隆宣 , ▲高▼荒新一 , 中村繁元 , 西尾務
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-528312
公開番号（公開出願番号）：特表2007-507114
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

マスクなし中規模材料デポジション(Maskless Mesoscale Material Deposition, M3DTM)処理のための方法および装置が開示され、これはエアロゾルを作るのに好ましくは超音波トランスデューサまたは圧縮空気噴霧器(22)を用い、このエアロゾルは流入口(20)を経由してフローヘッド(12)に入り、その際に随意的に、ガス量を低減するため事実上のインパクタ(24)ならびに溶剤を除去するまたは粘度を調整するためヒータアセンブリ(18)の両方を、あるいはそのいずれかを経由するようにしてもよい。機械的シャッター(28)のついた材料シャッターアセンブリ(26)が好ましくはフローヘッドの出口についており、鞘状のガスが流入口(18)を通って入り、エアロゾルがフローヘッドから出る前にそれを囲む。熱に弱いターゲットの上のエアロゾルデポジット材料は好ましくはレーザモジュール(10)からのビームで処理し、これによってそのターゲットを損傷閾値以上に加熱することなく、たとえば化学分解、焼結、重合などにより希望の状態を得るためにデポジットした材料を加熱する。1ミクロンの線幅の形状をデポジットすることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ターゲットの上に材料をデポジットする方法であって、エアロゾル流を発生するステップと、エアロゾルジェットを用いて前記エアロゾル流をデポジットするステップと、前記材料を得るためにその結果得られたデポジットを少なくともターゲットの損傷閾値温度とほぼ同じ温度においてレーザで処理するステップとを含み、その結果得られたデポジットの電気的特性が本質的に前記材料のバルクの形における電気的特性と同様である、方法。

IPC (6件)：

H01L 21/288 , C23C 26/00 , H01L 21/336 , H01L 29/786 , H01L 35/34 , H01L 35/20

FI (6件)：

H01L21/288 Z , C23C26/00 E , H01L29/78 627C , H01L35/34 , H01L35/20 , H01L29/78 618A

Fターム (44件)：

4K044AA01 , 4K044AA12 , 4K044AA13 , 4K044AA16 , 4K044BA01 , 4K044BA06 , 4K044BA08 , 4K044BA11 , 4K044BA12 , 4K044BA14 , 4K044BA18 , 4K044BA19 , 4K044BA21 , 4K044BB10 , 4K044BB11 , 4K044BC14 , 4K044CA41 , 4K044CA53 , 4M104AA09 , 4M104BB07 , 4M104BB09 , 4M104BB36 , 4M104CC01 , 4M104CC05 , 4M104DD51 , 4M104DD78 , 4M104DD81 , 5F110AA17 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110EE07 , 5F110EE42 , 5F110EE48 , 5F110FF27 , 5F110FF36 , 5F110GG02 , 5F110GG05 , 5F110GG15 , 5F110GG28 , 5F110GG42 , 5F110GG58 , 5F110HK32 , 5F110HK42 , 5F110QQ01

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