X線発生装置、X線露光装置及び半導体デバイスの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細江利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287567
公開番号（公開出願番号）：特開2001-108799
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：

【要約】【課題】長時間安定してX線を発生できるX線発生装置を提供する。【解決手段】同軸状の電極のうち、アノード805電極の上方に、標的溜まり800に結合されたノズル801がおかれており、ノズル801からは標的物質である微粒子状の水酸化リチウムが噴出されるようになっている。微粒子状の標的物質802がアノード電極805先端部に到達したときに、絶縁部材807の表面で発生したプラズマシートがアノード電極805の先端に到達するようなタイミングで、アノード電極805-カソード電極806間にパルス電圧を印加する。このようにすることにより、微粒子状のターゲット物質を自動的に、しかも断続的に供給できるので長時間X線を発生させ続けることができる。また、微粒子の速度をモニターして放電のタイミングを制御することにより、強くて安定したX線強度を得ることができる。

請求項（抜粋）：

電極間に高電圧パルスを印加することにより、電極材料又は電極近傍に存在する標的物質をプラズマ化し、当該プラズマよりX線を発生させるX線発生装置であって、前記電極材料を連続的又は断続的に供給する供給手段を具備したことを特徴とするX線発生装置。

IPC (5件)：

G21K 5/02 , H01L 21/027 , H01L 21/3065 , H05G 2/00 , H05H 1/24

FI (5件)：

G21K 5/02 X , H05H 1/24 , H01L 21/30 531 A , H01L 21/302 B , H05G 1/00 K

Fターム (19件)：

4C092AA04 , 4C092AA07 , 4C092AA14 , 4C092AA15 , 4C092AA16 , 4C092AB21 , 4C092AC09 , 4C092BD18 , 4C092BD19 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BD07 , 5F004CA02 , 5F046GA03 , 5F046GA06 , 5F046GA09 , 5F046GB01 , 5F046GC03 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭62-024544
特開昭63-232251
特開昭57-191948

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