特許
J-GLOBAL ID:200903002665560838

混合弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富澤 孝 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-321182
公開番号(公開出願番号):特開平6-147340
出願日: 1992年11月05日
公開日(公表日): 1994年05月27日
要約:
【要約】【目的】 複数の液体を混合した混合液を半導体製造工程に供給するシステムにおいて、時間経過とともに混合比を連続的に変化させることが可能な混合弁を提供することを目的とする。【構成】 複数種類の液体が流入ポート3、5から流入し、複数の流量調整装置1、2が、複数種類の液体の供給量を、コントローラの指令に従い個別に調整する。かかる各液体は、合流室37にて混合し、流出ポート4から混合液として供給する。これにより、混合比および供給量を時間経過とともに連続的に変化させながら混合液を供給することができる。
請求項(抜粋):
第1流入ポートと、流出ポートと、第1弁座とが形成され、前記第1弁座に当接または離間することにより前記第1流入ポートから流入する第1流体の遮断および流量調整を行う第1弁体と、前記第1弁体の変位を司る第1弁体変位手段とを有する混合弁において、第2流入ポートと、第2弁座とが形成され、前記第2弁座に当接または離間することにより前記第2流入ポートから流入する第2流体の遮断および流量調整を行う第2弁体と、前記第2弁体の変位を司る第2弁体変位手段と、前記第1流体の流路と前記第2流体の流路とが20 ゚以上120 ゚以下の交差角をもって合流する合流室とを有することを特徴とする混合弁。

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