特許

J-GLOBAL ID：200903002670350256

ラジカル含有液体及びその製造方法、制御方法、製造装置、ならびにその液体を用いた化合物の反応方法

発明者： 中村 彰信 ,  佐多 直明 ,  平野 啓二
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (4件)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-280973
公開番号（公開出願番号）：特開2005-046715
出願日： 2003年07月28日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】 機能性物質の合成や難分解性有機物質の分解処理などにおいて、酸化性ラジカルと還元性ラジカルの両方の反応性をそれぞれ有効に利用し、且つラジカルの生成量、種類、安定性、反応性などを制御することにより、目的の反応を効果的に促進させ、少ないエネルギーで迅速かつ効率的な反応を得る反応制御方法およびその装置を提供する。【解決手段】 反応溶媒中に少なくとも一対の電極を設け、前記電極に通電することによって酸化性ラジカルと還元性ラジカルを発生させることで、両ラジカルが反応空間で反応時間中に共存しているラジカル含有液体を得る。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸化性ラジカルと、還元性ラジカルが反応空間で反応時間中に共存していることを特徴とするラジカル含有液体。

IPC (3件)：

C02F1/461 ,  B01J19/08 ,  H01M6/02

FI (3件)：

C02F1/46 101Z ,  B01J19/08 A ,  H01M6/02 Z

Fターム (27件)：

4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EB02 ,  4D061EB09 ,  4D061EB20 ,  4D061EB21 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB40 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4G075AA13 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA20 ,  4G075CA54 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FB04 ,  5H024AA01 ,  5H024AA02 ,  5H024AA11 ,  5H024BB11

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 難分解性有機物の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-267020   出願人：荏原実業株式会社, 株式会社エイブル, 張書廷
• 廃水処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-077027   出願人：株式会社イガデン
• 第2611080号