特許

J-GLOBAL ID：200903002674796801

荷電粒子線分割投影転写装置

発明者： 荒井 治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-198156
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021746
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 電子レンズの有効視野を狭くすることができる荷電粒子線分割投影転写装置を提供する。【解決手段】 レチクルの1チップ分を複数のストライプ1に分割し、それをさらに複数のサブフィールド2に分割して、レチクルを移動させながら、その進行方向と略直角な方向に荷電粒子線をスキャニングしてサブフィールド2毎に分割投影露光を行う。その際、荷電粒子線のスキャン方向を、実線の矢印で示すように、サブフィールドの各列について同一方向とする。すると、露光されるサブフィールドの位置が、一つの直線状にあり、固定的であるようになる。よって、電子レンズ系の精度の高い範囲(有効視野)をこの直線に沿った狭い範囲に限定することができるようになり、電子レンズ系の設計が容易になる。

請求項（抜粋）：

被転写体上のパターンを複数のストライプに分割し、各ストライプを更に複数のサブフィールドに分割して、被転写体をステージ上で移動させながら、その移動方向と略直角な方向に荷電粒子線を偏向させてサブフィールドをスキャンし、サブフィールドに分割された被転写体のパターンを、サブフィールド毎に転写体に分割して投影転写する荷電粒子線分割投影転写装置であって、露光されるサブフィールドの位置が、一つの直線状にあり、固定的であることを特徴とする荷電粒子線分割投影転写装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147

FI (3件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C

Fターム (13件)：

2H097AB05 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA03 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5C033GG01 ,  5C033GG03 ,  5F056AA27 ,  5F056CB11 ,  5F056CB21 ,  5F056CC09 ,  5F056FA03