特許
J-GLOBAL ID：200903002675469030
表面分析方法及び表面分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 英彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-152234
公開番号（公開出願番号）：特開平7-012763
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】nmオーダーの極表面の結晶性、平坦性、不純物、結晶欠陥を同時にしかも同一場所で分析することが可能な表面分析方法を提供すること。【構成】真空中で試料4の表面に電子線8を照射して前記試料4の表面で回折された電子線8’の蛍光スクリーン20上での画像を計測する反射高速電子回折測定法において、前記試料4の表面から発生するX線28を計測するとともに、前記試料4の表面から発生するルミネッセンス光10を計測すること。
請求項（抜粋）：
真空中で試料表面に電子線を照射して、試料表面から発生するルミネッセンス光を計測するカソードルミネッセンス法において、前記試料表面に入射する前記電子線の入射角が10°以下であることを特徴とする表面分析方法。
IPC (2件)：
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