特許
J-GLOBAL ID：200903002677330560
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-342115
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173013
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：
【要約】【課題】 平坦化膜上に塗布された厚さの異なるレジスト層の露光量を最適化し、トラック部のレジスト形状、幅精度を向上させる。【解決手段】 フレームメッキ法によって第2の平坦化膜11上に上層コア9を形成する場合に、上層コア9の形状に対応したレジストフレームを形成する際に行われるレジスト露光工程が、第2の平坦化膜11上部のレジスト層13を露光する第1の露光工程と、第1の平坦化膜10及び第2の平坦化膜11底部のレジスト層13を露光する第2の露光工程とに分かれて段階的に形状の異なる第1のフォトマスク14及び第2のフォトマスク16を用いて行われる。
請求項（抜粋）：
平坦化層上に上層コアをフレームメッキ法によって形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、上記上層コアの形状に対応したレジストフレームを形成する際に行われるレジスト露光工程が、上記平坦化層上部のレジスト層を露光する第1の露光工程と、平坦化層底部のレジスト層を露光する第2の露光工程とに分かれて段階的に行われることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Fターム (3件)：
5D033BA01
, 5D033DA04
, 5D033DA07
