超音波洗浄用ノズル、超音波洗浄装置及び半導体装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-149129
公開番号（公開出願番号）：特開2003-340330
出願日： 2002年05月23日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】洗浄液を整流化し照射距離や流量変動による音圧値の乱れを抑制するとともに、ノズル内での不要な反射音波を軽減させ、製品不良を起さない超音波洗浄用ノズルを提供すること。【解決手段】洗浄液Lに超音波振動が与え半導体ウエハWに向けて吐出する超音波洗浄用ノズル60において、洗浄液Lが導入される中継室70と、中継室70に設けられ、中継室70内の洗浄液Lに超音波振動を与える振動部80と、振動部80と対向する位置に設けられ、洗浄液Lを吐出するとともに、中継室70側に設けられその内径が漸次狭くなるテーパノズル91及びテーパノズル91と連続して設けられその内径が一定の延長ノズル92を有するノズル体90とを備えている。

請求項（抜粋）：

洗浄液に超音波振動を与え被洗浄物に向けて吐出する超音波洗浄用ノズルにおいて、上記洗浄液が導入される中継室と、この中継室に設けられ、中継室内の洗浄液に超音波振動を与える振動部と、この振動部と対向する位置に設けられ、上記洗浄液を吐出するとともに、上記中継室側に設けられその内径が漸次狭くなる第1流路及びこの第1流路と連続して設けられその内径が一定の第2流路を有する吐出流路とを備えていることを特徴とする超音波洗浄用ノズル。

IPC (5件)：

B05B 17/06 , B08B 3/02 , B08B 3/12 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304

FI (5件)：

B05B 17/06 , B08B 3/02 B , B08B 3/12 Z , H01L 21/304 643 C , H01L 21/304 643 D

Fターム (14件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201BB32 , 3B201BB85 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 4D074AA09 , 4D074BB02 , 4D074DD04 , 4D074DD22 , 4D074DD32 , 4D074DD43 , 4D074FF01

引用特許：

審査官引用 (4件)

超音波洗浄器
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-329340 出願人：松下電器産業株式会社
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-199226 出願人：エムケー精工株式会社
特開昭62-159800

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