特許

J-GLOBAL ID：200903002685334257

露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにマスク

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-106699
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311896
出願日： 2003年04月10日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】所定の透過率分布を持つように製造された減光フィルタを用いて複数のパターンを一部が重なるように露光する場合、その減光フィルタの像に或る程度の局所的な規則性が残存していても、露光量むらを低減する。【解決手段】感光基板上に順次マスターレチクルRA〜RDのパターンの像を濃度フィルタ55を介して、一部が重なるように画面継ぎをして露光する。濃度フィルタ55の継ぎ部55a〜55dに規則性が残存している場合に、各マスターレチクルRA〜RDのパターンを感光基板上に露光する際に、継ぎ部55a〜55dと感光基板との相対的な位置関係を変えながら複数回露光を行う。これと共に、各マスターレチクルRA〜RDのパターンを感光基板上に露光する際に、濃度フィルタ55を振動させる。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

基板上で周辺部が部分的に重なる複数の領域にそれぞれパターンを転写するために、前記周辺部で露光ビームの強度を徐々に変化させる減光フィルタを介して前記露光ビームで前記各領域を露光する露光方法において、 前記各領域のうち少なくとも前記周辺部を複数回に分けて露光するとともに、前記周辺部の複数回の露光でそれぞれ前記基板の露光面とほぼ平行な所定面内における、前記減光フィルタによって規定される前記露光ビームの強度分布と前記周辺部との相対的な位置関係を異ならせることを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 514A ,  G03F1/08 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D

Fターム (9件)：

2H095BA05 ,  2H095BB01 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  5F046BA04 ,  5F046CB08 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046DA02