特許
J-GLOBAL ID:200903002691346917

垂直共振型面発光レーザダイオードおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富田 和子 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-079060
公開番号(公開出願番号):特開平9-270561
出願日: 1996年04月01日
公開日(公表日): 1997年10月14日
要約:
【要約】【課題】安定した単一横モード発振が得られる面発光レーザを提供する。【解決手段】半導体基板1上の一部に、基板1面に垂直な方向に共振器構造を有するレーザ構造層2、3、4を形成する。レーザ構造層2、3、4の側面を非晶質GaAs層7により覆った形状とする。レーザ構造層は、下部ミラー層2と活性層3と上部ミラー層4とを順に積層した構造である。活性層3は、AlGaAs/GaAs多層膜またはInGaAs/GaAs多層膜により構成する。非晶質GaAs層7は、低温で形成でき、結晶質GaAs層よりも屈折率が高く、バンドギャップが小さい。よって、レーザ構造層に光を閉じこめ、単一横モード発振が得られる。
請求項(抜粋):
垂直共振型面発光レーザダイオードの製造方法において、活性層としてAlGaAs/GaAs多層膜またはInGaAs/GaAs多層膜を半導体基板の上に成長させ、ミラー層および前記活性層をエッチングした共振層の露出されたミラー層および活性層の回りを覆うように非晶質GaAsを蒸着して安定した単一横モード発振が得られるようにした垂直共振型面発光レーザダイオードの製造方法。

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