特許

J-GLOBAL ID：200903002693467444

プラズマ発生器に用いられる静電遮蔽材に適用した電圧制御装置及びその方法

発明者： ベンジャミン ネイル ,  クシ アンドラス
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレイション
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-581551
公開番号（公開出願番号）：特表2004-533093
出願日： 2002年04月02日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

マッチングネットワーク経由で電源から電力供給される誘導コイル間に挿入された遮蔽材に適用する電圧制御装置であって、電源306により電力供給される遮蔽材304と、電源306を制御する誘導コイルに接続された第1のフィードバック回路と、遮蔽材304の電圧を制御するために、遮蔽材304に接続された第2のフィードバック回路とを有することにより、1つの電源によって電力供給されたアンテナ電流及びファラデー遮蔽材電圧の両方を独立に制御することができるようにする。

請求項（抜粋）：

マッチングネットワーク経由で電源から電力供給される誘導コイル間に挿入された遮蔽材に適用する電圧制御装置であって、 前記電源により電力供給される遮蔽材と、 前記電源を制御する誘導コイルに接続された第1のフィードバック回路と、 前記遮蔽材の電圧を制御するために、前記遮蔽材に接続された第2のフィードバック回路とを有することを特徴とする電圧制御装置。

IPC (2件)：

H05H1/46 ,  H01L21/3065

FI (3件)：

H05H1/46 R ,  H05H1/46 L ,  H01L21/302 101C

Fターム (2件)：

5F004AA16 ,  5F004CA03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-079561   出願人：株式会社日立製作所
• 特許第6174450号
  
• 特許第6200412号