特許
J-GLOBAL ID:200903002694099023
電子ビーム描画装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-043335
公開番号(公開出願番号):特開平10-241621
出願日: 1997年02月27日
公開日(公表日): 1998年09月11日
要約:
【要約】【課題】 ステージを頻繁に駆動しても、常に被描画材料の温度を一定とし、高い描画精度を維持することができる電子ビーム描画装置を実現する。【解決手段】 ステージ7には電熱線15が埋め込まれており、この電熱線15には電源16から基準加熱電流が供給され、ステージ7は非駆動時には加熱されている。この時の加熱のための電力値をWoとする。加熱電源16から電熱線15に供給される加熱電力は、制御回路17によって制御される。すなわち、制御回路17はモータ10の駆動電源18からの信号に基づき、加熱電源16から電熱線15に供給される加熱電力をWo-kWsとなるように制御する。ここで、kは定数(0<k<1)であり、Woはステージ駆動電力Wsの最大値Wsmに対し、Wo≧kWsmとなるように設定する。
請求項(抜粋):
被描画材料上に電子ビームを照射し、更に被描画材料を移動ステージ上に載せ、このステージを駆動手段によって移動させて所望のパターンの描画を行うようにした電子ビーム描画装置において、ステージに加熱手段を設け、ステージ駆動手段の駆動電力に応じた加熱電力を加熱手段に供給するように構成した電子ビーム描画装置。
IPC (5件):
H01J 37/305
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01J 37/20
, H01L 21/027
FI (6件):
H01J 37/305 B
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01J 37/20 E
, H01J 37/20 Z
, H01L 21/30 541 L
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