特許
J-GLOBAL ID:200903002695044648

デバイス製造方法、方位決定方法およびリソグラフィ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  山本 貴和 ,  岩本 行夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-273444
公開番号(公開出願番号):特開2005-101607
出願日: 2004年09月21日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】リソグラフィ装置を使うデバイス製造では、基板上に先に投影したパターンと正確に整列して次のパターンを投影する必要がある。従って、パターニング手段に関する基板の方位を正確に決めるべきであり、このためこの発明は、パターニング手段に関する基板の方位、特に回転を迅速に且つ基板上に特別なマークを要さずに決める方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板(2)上にあり且つ対応する形態を有する少なくとも二つの構造体(S1、S2)、例えば先に投影したパターンを、リソグラフィ装置に関連する測定座標系(u-v軸)に関して既知の位置で結像する。この少なくとも二つの構造体(S1、S2)の間の距離ベクトル(Tx)を決める。この距離ベクトル(Tx)から、この測定座標系に関する基板に関連するパターン座標系(x-y軸)の回転角(Rz)を計算する。【選択図】図4A
請求項(抜粋):
少なくとも部分的に放射線感応材料の層で覆われた基板(2)を用意する工程、 照明システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、 前記投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程、 前記基板(2)の方位を決める工程、 前記基板(2)とパターニング手段を前記基板(2)の方位に従って整列する工程、および 前記放射線のパターン化したビームを前記放射線感応材料の層の目標部分上に投影する工程、を含むデバイス製造方法に於いて、前記基板(2)の方位を決める工程が基板(2)の回転を決める工程を含み、前記工程が、 測定座標系で、対応する形態を有し且つパターン座標系に関する相対位置が分っている少なくとも二つの構造体(S1、S2)の間に距離ベクトル(Tx)を決める工程、 前記距離ベクトル(Tx)を前記測定座標系の第1軸(12)および第2軸(14)に沿う第1距離および第2距離(Tu、Tv)に分解する工程、および 前記第1および第2距離(Tu、Tv)を使って前記測定座標系に関するこのパターン座標系の回転を計算する工程、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  G01B11/26 ,  G01B21/22 ,  G03F7/20
FI (4件):
H01L21/30 525W ,  G01B11/26 H ,  G01B21/22 ,  G03F7/20 521
Fターム (23件):
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA20 ,  2F065AA39 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ41 ,  2F069AA03 ,  2F069AA83 ,  2F069BB40 ,  2F069CC06 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069NN13 ,  5F046BA03 ,  5F046DA05 ,  5F046DB04 ,  5F046FC04
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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