特許
J-GLOBAL ID：200903002705836246
電子線描画装置の焦点補正法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249508
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104163
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】輪郭分解描画するときの、輪郭部の矩形ビームの焦点合わせ精度をビームや偏向領域全般に渡って精度を上げて、描画することにより、パターン寸法精度を向上させる電子線描画装置の焦点補正法を提供することを目的とする。【構成】輪郭描画する矩形ビームで、基準マーク上を矩形ビームの長手方向と直行する方向に走査し、基準マークからの信号でビームのボケを求め、動的焦点補正データを求める。これを、ビームの全偏向領域に渡って実行し、全てのビームの偏向点で動的焦点補正データを求める。次に、同一矩形ビームにて輪郭部を描画する。【効果】電子線描画装置において、描画パターン寸法を飛躍的に向上させることが出来る。
請求項（抜粋）：
矩形の開口を有する第一アパーチャと、前記矩形像が投影される第二アパーチャを有し、第二アパーチャを通りぬけた電子線が可変矩形で試料上に投影され、前記可変矩形の電子線を偏向して試料を描画する、所謂、電子線描画装置において、可変矩形の電子線の焦点補正をする場合に、輪郭されたパターンの輪郭部を描画する時の矩形ビームでマーク上を走査し、前記マークから得られた信号でもって焦点補正データを作成することを特徴とする電子線描画装置の焦点補正法。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 F
, H01L 21/30 341 Q
