特許
J-GLOBAL ID：200903002709469752
密封構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中谷 武嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-230125
公開番号（公開出願番号）：特開2008-051285
出願日： 2006年08月28日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：
【課題】高圧力が作用してもバックアップリングが確実に弾性シールを受持して微小クリアランスの側へはみ出すことを防止できる密封構造を提供することを目的とする。【解決手段】バックアップリング2がその背面をV字山型とする。そして、凹周溝3の低圧側の側面3aとバックアップリング2の背面との間に、背面間隙4,5を未受圧状態下にて形成しておく。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凹周溝(3)に装着された弾性シール(1)を低圧側から受持するバックアップリング(2)と、上記凹周溝(3)の低圧側の側面(3a)との間に、上記凹周溝(3)の深さの中間部からラジアル外方及び内方に増加する背面間隙(4)(5)を形成するように上記バックアップリング(2)の背面形状を未受圧状態でV字山型とし、受圧状態で上記背面間隙(4)(5)が消滅して上記バックアップリング(2)の背面(2a)が上記凹周溝(3)の上記側面(3a)に圧接するように構成したことを特徴とする密封構造。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F16J15/18 B
, F16J15/32 301A
3J006AB01
, 3J006CA01
, 3J043AA12
, 3J043CA01
, 3J043CA11
, 3J043CB13
, 3J043DA03
出願人引用 (1件)
-
摺動部のシール構造
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-211271
出願人：カヤバ工業株式会社
審査官引用 (2件)
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