特許
J-GLOBAL ID：200903002714207901
表面構造が改良されたスパッタターゲット及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
笹島 富二雄
, 西山 春之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-293308
公開番号（公開出願番号）：特開2005-113267
出願日： 2004年10月06日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】非スパッタ領域の、再蒸着したターゲットコート材を捕捉する能力を向上させ、スパッタの再蒸着の影響を軽減する。 【解決手段】スパッタの再蒸着の影響は、スパッタターゲット1の非スパッタ領域3,4に巨視的な凹凸を形成することにより軽減される。この巨視的な凹凸の形成は、非スパッタ領域3,4に巨視的なトラフパターンを形成することによる。この巨視的な凹凸の形成に加え、ショット、ビード又はグリットのブラスチング法によりこのトラフパターンに微視的な凹凸を付加する。【選択図】 図1
請求項１：
スパッタ領域と、
巨視的なトラフパターンが形成された非スパッタ領域と、が設けられたスパッタターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4K029BD11
, 4K029DC12
, 5D112FA04
, 5D112FB02
