特許
J-GLOBAL ID：200903002714505651
実装済みプリント基板の検査装置
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-008105
公開番号（公開出願番号）：特開平6-213635
出願日： 1993年01月21日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 実装済みプリント基板上を微小ビーム光により走査し、その反射光を複数の方向から検出して実装状態を検査する装置に関する。光電変換素子の受光面積を拡大することなく、また、三角測量の走査位置による特性の変化を起こすことなく、高速、高精度かつ広範囲に部品の実装状態を検査する。【構成】 光源1より照射した微小ビーム光をポリゴンミラー3および投光fθレンズ5により、実装済みプリント基板6上を略垂直に走査する。光路補正光学系7、8、9、10は実装済みプリント基板6からの拡散する反射光を受光しその光路を補正する。補正は、微小ビーム光の走査位置の変化に関わらず一定の方向ベクトルの反射光を受光し、かつ、走査位置の高さに応じた光電変換素子19、20、21、22上の受光位置に導くようにする。
請求項（抜粋）：
検査すべき実装済みプリント基板上に照射するビーム光を発生する光源と、前記光源から発生した前記ビーム光が前記実装済みプリント基板上を走査するために、前記ビーム光を偏向する偏向手段と、前記偏向手段により偏向された前記ビーム光を前記実装済みプリント基板に対して略垂直に照射する投光レンズ系と、前記投光レンズ系により、前記実装済みプリント基板上に垂直に照射したビーム光の照射位置から拡散する反射光のうち、前記ビーム光の走査位置の変化に関わらず、垂直に照射されるビーム光の光軸に対する方向ベクトルが一定の反射光を受光するとともに、実装済みプリント基板に対して互いに垂直に、かつ前記走査方向に垂直な方向に関して互いに平行になるように反射光を導く複数の光路補正手段と、前記複数の光路補正手段を通過後の複数の反射光を、互いに平行に前記偏向手段に導く受光レンズ系と、前記偏向手段により偏向された反射光を受光し、その光量を前記実装済みプリント基板上の前記ビーム光照射位置の高さに応じた電気的出力に変換する光電変換手段とを備えた実装済みプリント基板の検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/24
, G01C 3/06
, G01N 21/88
, G02B 26/10 102
, H05K 13/08
