特許
J-GLOBAL ID：200903002716504369

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
高橋 表

高橋 表 について

, 
河邉 保雅

河邉 保雅 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-141633
公開番号（公開出願番号）：特開2006-317794
出願日： 2005年05月13日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、露光マージンが広く、疎密依存性が小さい優れた感光性組成物を提供する。【解決手段】 活性光線または放射線の照射によりスルホン酸基を複数有する特定の酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。【選択図】 なし
請求項１：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)一般式(I)で表される化合物、および (H)有機溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件)

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