特許
J-GLOBAL ID:200903002731584050
基板の表面地形を写像するための方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-577483
公開番号(公開出願番号):特表2003-527560
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2003年09月16日
要約:
【要約】勾配および高さの完全な表面マップが、光ビームを発生させるための光源と、入射ビームが、ウェーハの表面全体にわたり走査されることを惹起する走査および搬送システムとを含む。クワッドセル光検知器が、ウェーハ表面から正反射されたビームを受光するように配置され、クワッドセル検知器は、それぞれの象限内に配置されている4つのセルを有し、各セルは、セルにより受光された光量を示す電気信号を供給する。プロセッサは、セルからの信号を基礎として検知器上のスポット個所の変化を計算し、スポット個所の変化を基礎として表面勾配を計算するようにプログラミングされている。X勾配およびY勾配の完全なマップが、形成され、線積分アルゴリズムが、完全な表面高さマップを計算するのに使用される。閾値を越える表面高さ勾配の領域が、プロセッサにより欠陥として、フラグされる。
請求項(抜粋):
基板の表面の地形を写像するための装置において、入射光ビームを発生させることが可能であり、前記入射ビームが前記表面に入射し、前記表面から正反射で反射するように前記入射ビームを案内するように配置されている光源と、 走査システムであって、前記走査システムは、前記基板と前記入射ビームのうちの少なくとも1つを動かすことが可能であり、これにより、前記基板に対して前記入射ビームを動かし、このようにして、前記入射ビームが、複数の互いに間隔を置いて配置されている点で、表面に入射して、前記点のそれぞれから正反射で反射されるビームを発生させるようにすることが可能である、走査システムを具備し、 光検知器であって、前記光検知器は、前記正反射ビームのそれぞれを受光するように配置され、前記光検知器は、基準位置に対する、前記反射光のそれぞれの位置の変化の関数としての信号を発生させるように操作可能である、光検知器を具備し、 プロセッサであって、前記プロセッサは、前記表面上の前記点のそれぞれに対応する前記信号を受信し、各信号を基礎として、前記反射ビームの基準位置に対応する基準勾配に対する、各点での前記表面の勾配の変化を計算する、プロセッサを具備する装置。
IPC (3件):
G01B 11/30 101
, G01N 21/956
, H01L 21/66
FI (3件):
G01B 11/30 101 A
, G01N 21/956 A
, H01L 21/66 J
Fターム (39件):
2F065AA47
, 2F065BB01
, 2F065CC19
, 2F065DD03
, 2F065FF42
, 2F065GG05
, 2F065HH04
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ24
, 2F065LL10
, 2F065LL12
, 2F065LL14
, 2F065LL19
, 2F065LL62
, 2F065MM03
, 2F065MM16
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ25
, 2F065SS13
, 2F065UU05
, 2F065UU07
, 2G051AA51
, 2G051AB07
, 2G051AB20
, 2G051BA10
, 2G051BB11
, 2G051BC06
, 2G051CA01
, 2G051CB01
, 2G051EB01
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA38
, 4M106DA15
, 4M106DB02
, 4M106DJ11
引用特許:
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